濾光片在越來越多的光學領域中起到了相當重要的作用，但是我們經常使用的濾光片是怎么鍍膜，怎么制作出濾光片成品的呢？納宏光電（NMOT）帶您一覽濾光片鍍膜的神秘面紗。  

    濾光片基片用干凈的布片和有機溶劑進行清潔處理。將鍍膜機真空室內放氣后，用吸塵器清理鐘罩內部，在鉬舟內填裝待蒸發(fā)膜料，記錄下各個舟的膜料名稱。并在基片架上安放基片，勿使基片傾斜。落下鐘罩，按鍍膜機操作規(guī)程對真空室進行抽真空。當真空度達到3710Pa-′以后，依次對舟預熔，去除膜料中的氣體。此時，應注意用擋板擋住膜料，以保證預熔中基片不被鍍上。當真空度達到要求后，采用/4l極值發(fā)控制光學厚度的方法進行鍍制，可以選擇前面給出的兩種膜系中的任意一個膜系鍍膜，將控制波長放在632.8nm或其他波長。首先在玻璃基片上鍍制H層。隨著膜層增厚，放大器指示的光電流將下降。當光電流數(shù)值剛剛開始回升時，立即將擋板擋上。然后，降電流換電極，鍍L層。鍍L層時，光電流隨著膜厚增加而上升，達到極值時停止鍍膜，重復以上步驟鍍H層。當鍍制光學厚度為/2l的間隔層時，厚度增加一倍 ，應在光電流上升再下降到極值時停止。以后幾層同前幾層一樣控制，但變化規(guī)律相反。  鍍膜結束后，依鍍膜機操作規(guī)程停止加熱和抽真空。半小時后，方可對鍍膜機真空室充氣，取出所鍍制的干涉濾光片。然后按操作規(guī)程再對鍍膜機抽真空，以保持清潔，最后停機。